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光掩膜涂料

(用于光刻术)
 
防止粘滞现象和细孔产生的乳浊液光掩剂的可靠保护涂料。可以提高半导体装置的效率和延长光刻胶光掩剂的寿命。
 
特点
 
• 光掩膜的润滑保护涂料——防止粘滞
• 阻止细孔的产生——防止电路短路和图案模糊不清
• 提高半导体装置效率
• 使用简单方便——不需要特殊设备
• 安全、经济
 
Transene光掩膜涂料-2060是设计用来延长光掩膜寿命、降低细孔密度的保护性高聚物涂料。涂上阴性光刻胶可以明显提高一定数目触点装置的效率。用阳性光刻胶同样可以提高其效率,虽然效果比阴性光刻胶稍差。当光掩膜中产生细孔时,由于光刻胶和光掩膜两相分离时光刻胶粘附于光掩剂乳浊液体会使装置效率和光掩膜寿命降低。细孔的存在会导致电路短路和装置的精确性变差,从而降低其效率。在光掩膜上涂以Transene光掩膜涂料可以降低细孔密度并对光掩膜起保护作用。这种涂料是由润滑高聚物和无毒的水-酒精溶剂配制成的。
 
性质
 
外观
无色液体
溶剂体系
无毒水-酒精
粘度(RT)
140cps
比重
0.917
涂层厚度
6 microns(Nom.)
涂敷表面积
50sq.ft/qt
透光率
 
可见光
99%
U.V.
98%
有效期
6个月
 
应用
 
经浸渍涂敷之后可以得到6微米厚透明涂层。经最初使用后,如果溶液被灰尘或外来的其他颗粒物质所污染,则需要对溶液加以过滤后再使用。需要在85℃固化30分钟。不过建议在真空条件下进行固化,这样可以避免气泡的发生。随后再次涂涂料时,可以用热水先把原先的光掩层上的涂料洗除掉。
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