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Kopton聚酰亚胺膜蚀刻剂

本品是用于聚酰亚胺/铜叠层材料的蚀刻剂,与Riston、Eastman Kodak和Dynachem等光刻工艺具有良好匹配性。
 
蚀刻速率
 
40℃
0.013密耳/分
60℃
0.07密耳/分
冲洗
贮存
室温
处理
碱水
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