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阳性光刻胶去除剂

PRR-001和PRR-002
 
PRR-001
 
说明
 
阳性光刻胶去除剂PRR-001是由水溶性和可生物降解成分组成的一种专利混合物。PRR-001用来去除(溶解)烘烤在各种基体上(如砷化镓、铬、硅等)的普通阳性光刻胶,使用得当时,对各种金属以氧化物表面无腐蚀作用。
PRR-001去除剂不含磷酸盐、铬酸盐、苯酚、氯代烃和硫酸等,使用时无特别注意事项。PRR-001在室温下使用性能良好,槽液寿命约为2000薄片/加仑。加温时可以用来去除聚酰胺。成本去除一个薄片上的光刻胶为一美分。当贮放在避光的阴凉处时,有效期为一年。
 
化学性质和物理性质
 
外观
淡黄色液体
比重(68℉)
0.99±0.01
折射率(nD26.0℃)
1.4271±0.0005
PH(68℉)
12.60±0.05
 
应用
 
槽液组成
对所有半导体操作都是全强度,喷涂或浸泡槽操作。
如果采用浸泡操作法,需在室温搅拌3-5分钟。亦可在加温条件下(70-90℃)进行溶解。浸泡操作采用双槽系统,喷液操作采用传送带设备。
 
冲洗
PRR-001全溶于水,冲洗时只需用去离子水。
 
槽液寿命
当去除光刻胶的操作时间超过15分钟,或超过2000薄片/加仑时,槽液便要更换一次。
 
PRR-002
 
说明
 
阳性光刻胶去除剂PRR-002是一种由水溶性和可生物降解的成分组成的专利混合物。它可以去除所有用远紫外线处理以便在进行离子注入,离子蚀刻或等离子体蚀刻的各种金属基体上的一般阳性光刻胶。PRR-002在使用得当时,对各种金属和氧化物表面无腐蚀作用。
PRR-002不含有磷酸盐、铬酸盐、苯酚、氯代烃以及硫酸,用其进行处理时无特殊注意事项。PRR-002与所有聚四氟乙烯、聚丙烯和聚乙烯材料都相匹配。PRR-002在室温和稍加温情况下表面性能良好,可除去各种难以洗除的光刻胶。使用PRR-002明显经济合算。PRR-002应当贮放在避光的阴凉处,有效期6个月。
 
化学性质和物理性质
 
外观
淡黄色液体
比重(68℉)
0.97±0.01
折射率(nD22.5℃)
1.4271±0.0005
PH(68℉)
12以上
过滤
0.2μ
 
外观
淡黄色液体
比重(68℉)
0.99±0.01
折射率(nD26℃)
1.4271±0.0005
PH(68℉)
12.60±0.05
 
应用
 
槽液组成
对多数半导体操作都是全强度。
建议用双槽体系
1、对于标准光刻胶处理(90-140℃):在55℃,3-5分钟
2、对于远红外和硬光刻胶处理(150-200℃):在55-90℃,每槽5-10分钟
 
冲洗
PRR-002完全溶解于水,可仅用去离子水冲洗
 
槽液补充/更换
当去除光刻胶的操作时间超过15分钟或处理量超过2000片/加仑时,便要更换去除剂。
1、要不断补充去除剂以保持其容量
当每槽去除光刻胶的操作时间超过20分钟时便要更换槽液
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