022-23928031

微电子材料

化学试剂类

美国BTC产品代理

首页> 所属分类> 清洗剂和抛光剂

渣滓去除剂Sequestrox

(用于低K介电质和硅装置的渣滓去除剂)
 
去除低钾介电材料灰性渣滓的有效氧化和螯合体系,去除蚀刻污染物,从而使硅p-n结装置稳定化。
 
特点
 
· 可得到化学洁净表面
· 不侵蚀基板
· 接点漏电性低
· 电子雪崩击穿锐
· 高温电学性质稳定
· 产品产率高
· 无危害性
· 可用水冲洗
 
K介电质渣滓去除剂Sequestrox
 
说明
 
Sequestrox配方支持低于0.25m技术的向前进展。厂家需要用渣滓去除剂清洗电路、金属线、灰沟和金属蚀刻渣滓。否则蚀刻过程产生的渣滓行将影响装置的效率和性能。
Sequestrox体系采用专利化学技术络合和螯合渣滓和污染物。Ⅰ型到Ⅳ型Sequestrox不含有钠。所有各型号Sequestrox用过后皆易用去离子水冲洗。而且不苛求马上冲洗。Sequestrox化学作用缓和了对敏感金属蚀刻率低。
 
益处
 
· 低温加工处理过程
· 与大多数低K膜相匹配
· 水溶液,无危害性
· 低氧化蚀刻速率
· SequestroxⅠ型、Ⅱ型和Ⅲ型与Ag、Cu、Ni相匹配
· SequestroxⅣ型与Mo、W、Ag、Al、Cu及钢相匹配
 
应用
 
Sequestrox体系与HDPE、LDPE、PP、橡胶以及聚四氟乙烯涂盖材料相匹配。
 
 
SequestroxⅠ型、Ⅱ型和Ⅲ型
 
第一步,预先混合等体积的SequestroxⅠ型和Ⅱ型。将装置立即放在此混合液中,并作超声洗涤1-2分钟。
第二步,加入Ⅲ型Sequestrox溶液(每100ml上述混合液加Ⅲ型溶液10ml),再继续作超声洗涤1.5分钟。用去离子水冲洗。
 
Ⅰ型和Ⅱ型Sequestrox用于洗涤铜和镍
 
第一步,预先混合好等体积的Ⅰ型和Ⅱ型溶液。立即将装置放入此混合液中并作超声洗涤1-2分钟。
第二步,用去离子水冲洗。然后用丙酮,或最好用Transene100作超声彻底清洗。
 
Ⅳ型Sequestrox用于清洗钨和钼
 
第一步,将装置放在Ⅳ型Sequestrox溶液中,在室温下超声洗涤3分钟。
第二步,先用去离子水冲洗,然后用丙酮或Transene100冲洗。
 
用于硅装置的Sequestrox蚀刻添加剂
 
说明
 
Sequestrox体系是特殊电解质配方,配合用于蚀刻过程生产硅p-n结装置以改进产品质量和效率。标准蚀刻过程(硝酸-HF-醋酸)虽能去除蚀刻掉的硅,但是总有渣滓污染物在表面残留。这些杂质来源于蚀刻溶液和硅装置的暴露的金属部分。为了避免装置发生故障,必须彻底清除所有这些污染物质。采用Sequestrox体系作为蚀刻添加剂便可顺利完成此项任务。
生产Sequestrox体系采用的试剂能有效氧化、络合和螯合硅表面产生的污染物。Sequestrox体系不含有钠,而且易于用去离子水冲洗掉。供应几种不同型号的Sequestrox体系,客户可根据硅装置中的不同金属部件进行选择。
 
Ⅰ型、Ⅱ型和Ⅲ型Sequestrox
 
建议用于有银和铜部件的半导体装置、铅-锡或其他焊料和镀镍硅件的蚀刻过程。
 
Ⅳ型Sequestrox
 
建议用于带有钼、钨触点和有银、铝、铜和钢部件的半导体装置的蚀刻过程。
 
 
 
应用
 
Sequestrox一般是通常在酸蚀刻过程之后用来去除p-n结装置的损伤硅的。使用时对Sequestrox体系必须作适当选择。使用Sequestrox蚀刻添加剂的典型步骤如下:
 
Ⅰ型、Ⅱ型和Ⅲ型Sequestrox
(用于带有银线的硅整流装置)
 
第一步,在硝酸-HF-醋酸混合液中浸蚀装置以去除损伤边沿。用去离子水冲洗之。
第二步,预先混合等体积的Ⅰ型和Ⅱ型Sequestrox溶液。立即将装置放到此混合液中,超声洗涤1-2分钟。
第三步,加入Ⅲ型Sequestrox溶液(每100ml上述混合液加10 mlⅢ型溶液),再继续超声洗涤1.5分钟。用去离子水冲洗之。
第四步,用丙酮,最好用Transene-100作最后超声洗涤。
 
Ⅰ型和Ⅱ型Sequestrox溶液
(用于铜螺栓固定的硅整流器)
 
第一步,在固定之前将硅片在硝酸-HF-醋酸混合液中进行浸蚀。
第二步,预先混合等体积Ⅰ型和Ⅱ型Sequestrox溶液。立即将装置放在混合液中,超声冲洗1-2分钟。
第三步,用去离子水冲洗。然后再用丙酮,最好是Transene-100,作最后全面冲洗。
 
Ⅳ型Sequestrox
(用于带有钼触点的硅整流器)
 
第一步,预先将硅进行浸蚀或固定。或是将带有触点的硅进行旋转浸蚀以去除p-n结的损伤硅。
第二步,将装置放在Ⅳ型Sequestrox溶液中,在室温下超声洗涤3分钟。
第三步,用去离子水冲洗。然后用丙酮或Transene-100作超声洗涤。
版权所有 天津创绅微电子科技有限公司 津ICP备20002604号 公司地址:天津南开区红旗南路天津奥林匹克村13-4-201