氧化锡/铟锡蚀刻剂TE100
说明
氧化锡/氧化铟锡蚀刻剂TE—100是微电子产品氧化锡和氧化铟锡（ITO）膜层的选择蚀刻剂。它能有效地蚀刻沉积在陶瓷、介电质、半导体和许多金属上的ITO和氧化锡膜。TE—100蚀刻线清晰、蚀刻速率可控。与阴性和阳性光刻胶具有广泛的匹配性。TE—100与镍、铜、镍铬和铝不匹配。
性质
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外观
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深琥珀色
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蚀刻速率，25℃
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15～20 Å/秒
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操作温度
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40～50℃
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冲洗
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去离子水
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贮存
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20～25℃
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有效期
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在15～25℃，1年
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应用
