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NPD阴性光刻胶显影剂

说明
 
Transene NPD阴性光刻胶显影剂是能使暴光的阴性光刻胶显影的高纯净有机溶液。
提供多种专利溶剂显影液用于不同光刻胶的显影。它们分别与所使用的光刻胶相匹配。这些显影剂是根据具体工艺条件所要求的酸度大小进行选择的。所有阴性光刻胶显影化学药品都以工作溶液的形式出售。
 
性质
 
产品
二甲苯 : 斯托达德溶剂(Stoddard)
NPD 4001
NA
NPD 4030
100:0
NPD 4032
--
NPD 4033
1:2
NPD 4040
NA
NPD 4050
1:1
PKPⅡ型显影剂
NA
 
显影
 
在显影过程中,根据显示图象情况可用显影液采用冲洗,喷液或浸泡等形式将未暴光的光刻胶除去,并同时保护好基体。为了得到极高的细线分辨率,建议用喷液显影方法。对于要求不甚严格的图案,如线宽和间距大于7μ,同时又采用机械法或通氮气发泡时可采用浸泡法显影。下表给出用喷液和浸泡法显影所需用的时间:
 
典型喷涂时间
 
溶液
时间(秒)
显影剂,二甲苯,斯托达德溶剂
10 ~ 15
冲洗,n-丁基乙酸酯
10 ~ 15
氮气干燥
15 ~ 20
 
典型浸泡显影时间
 
溶液
时间(秒)
显影剂,二甲苯,斯托达德溶剂
60 ~ 75
冲洗,n-丁基乙酸酯
20 ~ 30
氮气干燥
15 ~ 20
用红外线烘烤(预蚀刻)
 
在一个对流烘箱中于140℃±5℃用红外线烘烤25±5分钟,在烘烤期间显影溶剂蒸发掉,同时光刻胶和基体间的粘结力增强。这里应当指出,红外线辐射能影响不同基体的温度是各不相同的。烘烤和蚀刻之间的时间最多为4小时。
 
蚀刻
 
光刻胶与酸性和碱性金属蚀刻剂以及氢氟酸缓冲液都相匹配。时刻速率决定于温度,搅拌速度和蚀刻混合物的种类。而且这里难以详细说明各种不同蚀刻剂对光刻胶的影响。
 
光刻胶的去除
 
光刻胶可以用任何一种常用化学体系去除掉。若干去除剂溶液已有市售,有的需要加热,有的需要擦洗。
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