半导体蚀刻剂
本品为预先混好，随手可用的含有电子级质量的硝酸-HF酸混合液的蚀刻剂，用来蚀刻硅、锗、镓、砷化物以及其他半导体材料。
特殊硅蚀刻剂
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产品号
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蚀刻剂
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蚀刻速率
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RSE-100
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缓慢蚀刻硅
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20 Å /秒
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RSE-200
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蚀刻台面型晶体管
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100 Å /秒
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标准硝酸－HF酸蚀刻剂
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产品号
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蚀刻剂组成比
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RSE-101
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10：1
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RSE-41
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4：1
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RSE-31
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3：1
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RSE-12
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1：2
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标准硝酸－HF酸－醋酸蚀刻剂
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产品号
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蚀刻剂组成比
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RSE-533
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5：3：3
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RSE-511
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5：1：1
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RSE-111
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1：1：1
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RSE-322
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3：2：2
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RSE-1155
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11：5：5
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RSE-563
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5：6：3，250 Å /秒，20℃蚀刻锗
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