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固体扩散剂

(用于半导体技术)
 
用于半导体装置的半导体级磷、砷、锑和硼。
适当的剂量包装供扩散工艺使用。
 
施主型
 
粒状五氧化二磷(P2O5
三氧化二砷(As2O3
 
受主型
 
粒状硼酐(三氧化二硼B2O3
粉状硼酸(H3BO3
 
说明
 
Transene扩散剂是超纯半导体级化学试剂,它以合适方便的剂量包装出售,供应固态扩散工艺的需求。Transene扩散剂不含水分,其规格超过了ACS关于化学纯试剂材料的标准。供应类型包括硼酸、硼酐(受主型)和五氧化二磷(施主型),包装以氮气保护。
Transene扩散剂是通过扩散工艺掺入第Ⅳ族元素半导体的最主要的杂质材料。Transene扩散剂颗粒大小均匀,这就保证对吹径扩散仪的载气中扩散剂的浓度能作到良好控制。固态扩散过程依赖于硅(或锗)与高温下产生的硼和磷化合物蒸汽的化学反应。在半导体表面生成的薄膜变成了硼或磷的无限扩散之源。这些扩散过程易于调节控制从而得到p-n结和电阻触点。
Transene扩散剂用于生产制作平面晶体管、场效应装置、二极管、整流器以及其他硅和锗装置。使用Transene高纯扩散剂是采用扩散技术制作高可靠性、优良质量半导体的基本保证。
  
Transene扩散剂(最低纯度99.9%)的物理性质
 
性质
硼酸
硼酐
五氧化二磷
分子式
H3BO3
B2O3
P2O5
熔点
61.84
64.69
141.96
蒸发热(K卡/克分子)
--
--
22.7(P2O5
正四面体半径比
B/Si or P/Si
0.75
0.75
0.93
杂质浓度
(在锗中)
(在硅中)
 
0.0104
0.045
 
0.0104
0.045
 
0.0120
0.050
活化能(K卡/克分子)
(在锗中)
(在硅中)
 
105
85
 
105
85
 
57
85
指前因子扩散系数,Do(cm2/秒)
(在锗中)
(在硅中)
 
1.6×109
10.5
 
1.6×109
10.5
 
2.5
10.5
扩散常数(cm2/秒)
(在锗中)
(在硅中)
 
8.7×10-15 @ 950
6.4×10-12 @ 1275
0.4×10-12 @ 850
 
7.7×10-15@ 950
5.0×10-12@ 1235
10-11@ 900
表面浓度(原子数/cm3
(在硅中)
 
1021 @ 950
1021@ 1275
 
2.5×1021 @ 950
1020 @ 1235
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