氧化铝型抛光粉—Polimet
（用于抛光和研磨的抛光粉）
多醇载体基含有特殊抗静电剂的氧化铝金属研磨和抛光粉
独特的优点
· 很好用于研磨和抛光工艺过程
· 提供非干性媒液
· 加速研磨作用
· 消除静电放电现象
· 提供研磨和抛光化合物的有效颗粒大小分布，能满足具体需求
· 抛光而光滑无痕
说明
氧化铝型抛光粉—Polimet是将纯氧化铝粉末分散于多醇－水基液中制成的光学精整级悬浮液，里面加有抗静电剂。分散介质中颗粒大小分布极窄。基本上不干的、多醇－水基的使用以及抗静电剂的存在可以有效阻止金属抛光过程中静电的积累。此外，氧化铝结晶结构的选择可以保证快速的琢磨速率，而多醇－水基液则可保证抛光面光滑、无损无痕。
Polimet抛光粉建议用来抛光金属、半导体、玻璃、高聚物材料等。使用氧化铝型抛光粉Polimet-A、B和C可以得到质量极高的抛光产品，而Polimet D、E、F、G和H则适合用于琢磨和研磨过程。
氧化铝型抛光粉Polimet
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氧化铝类型
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微米大小
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晶体结构
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莫氏硬度
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使用目的
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Polimet-A
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0.05
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立方晶系
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8
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抛光
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Polimet-B
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0.3
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六方晶系
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9
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抛光
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Polimet-C
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1.0
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六方晶系
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9
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抛光
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Polimet-D
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5.0
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六方晶系
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9
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研磨
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Polimet-E
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10.0
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六方晶系
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9
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研磨
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Polimet-F
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15.0
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六方晶系
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9
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研磨
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Polimet-G
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20.0
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六方晶系
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9
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研磨
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Polimet-H
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25.0
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六方晶系
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9
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研磨
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注：除了对抛光各种材料所作的不同具体说明之外，金属抛光一般应采用常规抛光步骤。
